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探析晶硅光伏电池漏电的原因

2016-10-26 09:49:40      点击次数:
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  等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反应,使反应气体激活成活性粒子,如原子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀的部位,在那里与被刻蚀材料进行反应,形成挥发性生成物而被去除。

  如果硅片未刻蚀或刻蚀不完全没有及时发现,并且下传印刷,将产生局部漏电的电池片,我们可以通过IR红外热成像仪,判断局部漏电硅片是否刻蚀原因产生的。

  IR红外热成像仪的工作原理是在连接电池片的正负极时,使电池片上会形成一个电流回路,当有区域漏电时,该区域的电流就会特别大,产生的热量就会比较多,红外成像仪可以根据硅片表面产生的不同热量转换为电信号,进而在显示器上形成热图像,可以对发热的异常区域进行准确的识别。

  
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