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硅光子芯片设计突破结构限制瓶颈

2016-10-22 11:00:01      点击次数:
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  当今的硅光子芯片必须采用复杂的制造制程连接光源与芯片,而且也和晶圆级堆栈密不可分。然而,德国慕尼黑工业大学(Technical University of Munich;TUM)的科学家们最近宣称,他们已经成功地在芯片上直接生长出直径360nm的垂直纳米激光器。这为在CMOS电路上的光子组件整合开启了新的光学端口。

  由于各种材料具有不同的晶格参数以及不同的热膨胀系数,在硅晶上生长III-V族半导体经常导致应变并产生大量的缺陷,使得这些分层并不适用于打造可用的设备。

  慕尼黑工业大学的研究团队首先单独在直径仅40-50nm占位空间的芯片上沉积砷化镓(GaAs)纳米线,以符合250nm二氧化硅(SiO2)交错层中的播种小孔直径。然后在透过可控制的横向生长选择性扩展GaAs纳米线直径以前,再用分子束外延(MBE)生长长度约10um 的内部核心纳米线至同轴雷射结构中。

  硅光子芯片设计突破结构限制瓶颈

  GaAs/AlGaAs纳米线(c)通过外部光泵的(a)尺寸测量与(b)雷射实验的SEM图

  透 过改变其化学成份,研究人员们透过沉积多个六角形GaAs-AlGaAs核-壳(core-shell)结构,顺利打造出多层的量子阱(QW)。他们展示 在75nm厚的AlGaAs阻障层之间夹层8nm厚的GaAs QW,以及由7层8nm GaAs QW组成并以10nm AlGaAs阻障层隔离的多量子阱雷射结构。

  硅光子芯片设计突破结构限制瓶颈

  (a) 同轴GaAs-AlGaAs多层QW纳米线异质结构;(b)在Si上生长雷射结构的SEM影像;(c)相同结构的HAADF-STEM影像横截面,明亮处 是GaAs层,黑暗处则为AlGaAs区域;(d)相邻GaAs QW与AlGaAs阻障层的原子序对比(Z-contrast)功能与放大影像大电流电感

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